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制裁之下 光刻胶却逆势上扬!

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发表于 2020-7-15 18:45:23 |显示全部楼层
不看不知道,年初至今,领涨光刻胶的蓝英装备、晶方科技、安集科技和容大感光的涨幅已经超过了200%,羡煞旁人。

要投就投中高端的光刻胶龙头!
为什么?
简单来说,我国光刻胶在低端应用领域已基本满足自给,但是在高端产品方面仍然需要突破。
光刻胶分三个细分领域:半导体光刻胶、LCD光刻胶、PCB光刻胶,其中半导体光刻胶代表了最先进的光刻胶技术。
全球光刻胶行业呈现寡头垄断格局,日本光刻胶公司领跑,日本JSR、东京应化、信越化学、富士电子材料四家企业市占率高达72%。大陆企业份额不足10%,且国内供应以PCB光刻胶为主,占到95%。
虽然国内光刻胶需求不断上涨,但是国内光刻胶仍十分依赖进口,半导体光刻胶和LCD光刻胶几乎全靠进口,顺便提一下,能自产的PCB光刻胶的生产原料也依赖进口。



在半导体制造中,光刻胶及其配套设备起到支撑产业链的关键作用,光刻胶的质量直接影响到半导体集成电路/器件的制程精度。
为了保证高精度光刻的质量,如7/5nmIC制程,好的光刻胶必须满足高分辨度、高敏感度、高对比度等技术指标。因此,光刻胶是支撑产业链的关键材料。
在国际博弈中,光刻胶是我国半导体产业最大软肋之一,无法自产会使本土产业受制于人,容易“卡脖子”。
2019年日本断供韩国半导体原料的事件说明,只有关键材料国产化才能更好保证产业发展。供需矛盾加剧下,光刻胶国产化迫在眉睫。
总之,光刻胶的低端领域已经没有太大的发展空间,光刻胶的爆发力,肯定是在高端产品方面。
不管是公司,还是行业的上下游,都期待龙头公司能够突破高端光刻胶受制于人的局面,使光刻胶国产化由低端走向高端。
懂得了这个大方向,我们才能心有成竹,筛选真正的龙头企业。


那么,就像许多檀香疑惑的一样,究竟什么才算龙头?
半导体光刻胶生产和研发企业目前主要有五家,分别为苏州瑞红(上市公司晶瑞股份子公司)、北京科华、南大光电、容大感光、上海新阳。
以下从半导体的三代光刻技术对于上述五家公司进行对比。
首先是G/I线光刻胶(436/365nm),目前的国产化率是三代光刻技术中最高的,占比15%。
其中北京科华已经可以实现I线光刻胶产能500吨/年;苏州瑞红则实现120吨/年(02专项);容大感光则正在产能建设中。



其次是KrF/ArF光刻胶(248/193nm),目前除了北京科华的年产量(KrF)可以达到10吨,几乎全部都靠进口。
不过,苏州瑞红(KrF)已经进入产品中期测试阶段;上海新阳则预计6月份进入产品中期测试。
更为高端的ArF方面,北京科华已经实现了立项,处于研发阶段。
此外,今年5月22日,南大光电在互动平台表示,公司的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试,这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了重要突破,从研发开始走向生产。  根据南大光电公司之前的消息,公司于2017年开始研发“193nm光刻胶项目”,已获得国家“02专项”的相关项目立项,计划通过3年的建设、投产及实现销售,达到年产25吨193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模。
最后,就是最“高级”的极紫外(EUV光刻胶)。
目前,国内只有北京科华参与的国家科技重大专项极紫外(EUV)光刻胶项目已通过验收。
不过,EUV光刻胶也不是目前急需的,因为国内目前还没有EUV工艺量产,193nm的ArF光刻胶更加重要。
可以看出,北京科华是当之无愧的龙头之一。虽然北京科华不属于未上市公司,但有两家上市公司是北京科华的持股股东。



最“疯狂”的当属近五个交易日便收获5个涨停板的彤程新材,据其7月9日发布的股价异动公告显示,公司全资子公司彤程电子受让北京科华33.70%的股权并完成工商变更登记。
此外,上市公司高盟新材也在去年从南大光电的手里买下了3.67%的股权。
北京科华成立于2004年8月,是中国第一家生产光刻胶的公司,创始人陈昕是一个典型的工科女生,1990年美国马萨诸赛州立大学高分子专业研究生毕业,毕业后先在一家美国光刻胶公司工作,后作为创始人之一在美国创建了MCC光刻胶公司,2004年回国创业。
值得一提的是,科华微电子是目前国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司,其最小分辨率可达0.11um。通过与客户晶圆厂同样的检测设备配置,实现了上下游产品检测的无缝对接。
除了通过投资北京科华进军光刻胶行业的彤程新材和高盟新材,曾经主营业务为汽车用改性塑料产品的普特利,也在去年通过投资了王晓伟博士的光刻胶公司——苏州理硕科技有限公司,成功进军光刻胶行业。
该公司目前正处于产品研发阶段,主要方向是KrF和ArF、TFT、PSPI等光刻胶产品的企业。
关于王晓伟博士,业内评价很高,有谓之“光刻胶第一人”,是日本和美国光工程学会会员,多年在日本从事EUV光刻胶的量产化工作,长期与JSR、信越公司竞争。
如此来看,光刻胶行业可谓是朝气蓬勃,欣欣向荣。



但是,尤其需要注意的是,光刻胶质量依赖于上游原材料,但高端光刻胶原材料被高度垄断,我国只能进口。
所以,国内光刻胶龙头企业在启动ArF光刻胶项目时,仍需要承受原材料被封锁的风险。
对这种情况,国际巨头的操作是:向产业上游伸出手,达到生产自给自足的目的。当然,国内也有厂商借鉴了这种模式来降低风险。
比如说上海新阳,就选择了与合作伙伴同时开发关键原材料,来确保ArF项目的原材料供应不至于某一天突然被“短缺”。
综上所述,光刻是芯片制造中的关键一环,光刻胶也是光刻过程中不可忽视的重要板块,集中力量突破技术天擎,仍是未来长时间内的主题。
光刻胶,如此美丽,虽然朦胧,仍值得一等。
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